IT之家 8 月 23 日消息，在当地时间 22 日在马来西亚槟城举行的集体采访中，英特尔逻辑开发副总裁 William Grimm 表示 Intel 4 制程（注：原 7nm）的良率高于预期，他对此充满信心。

Intel 4 是英特尔工艺中首次应用极紫外光（EUV）的工艺。根据 IC Knowledge 提供的逆向工程数据，Intel 4 工艺的性能优于台积电 5nm，接近 3nm 工艺，但 William 坚持“很难将 Intel 4 与其他代工厂的现有节点进行比较，所以只是参考外部基准测试执行了自己的 PPA”。

“通过 EUV，我们可以控制工艺复杂性”，“我们成功收获得了比预期更高的产量”，他说道。

William Grimm 介绍称，Intel 4 节点是一个特别注重能源效率的工艺。“如果说 Intel 7 工艺是专注于性能最大化的工艺，那么 Intel 4 则专注于提高能效”，“它更适合笔记本电脑等应用”。

他还表示，“（EUV 产能）已经有足够的保障来满足市场需求”，并且“未来几年的计划，比如 Intel 3 已经确定了”。